乾燥機

この二重円錐型真空乾燥機は、低温真空乾燥技術を採用しており、熱に弱く、酸化しやすく、揮発性があり、刺激臭のある材料向けに専門的に設計されています。医薬品、化学、食品、新エネルギー産業など幅広い分野で使用でき、医薬品原料、ハーブエキス、化学中間体、食品添加物などの粉末、顆粒、結晶性材料の乾燥に適しています。
密閉型二重円錐回転構造により、均一な乾燥を実現し、原料の活性と製品の安定性を効果的に維持するとともに、原料ロスを大幅に削減します。GMP基準に完全準拠した密閉設計により、交差汚染を防ぎ、生産の安全性と衛生性を保証します。操作が簡単で、性能が安定しており、幅広い用途に対応できるこの乾燥装置は、多様な生産ニーズを満たし、様々な工業プロセスに最適な乾燥ソリューションです。

シーメンス製比例弁を用いたPID制御により、空気温度は周囲温度から120℃まで調整可能です。安定した蒸気供給と適切なスチームトラップにより、温度は設定値から±2℃以内に維持され、温度変動を防ぎ、生産安定性を向上させます。

装置の自動生産と自動洗浄の処方は、可変プロセス制御をサポートし、各段階のプロセスパラメータは、顧客のカスタマイズされたプロセスのニーズを満たすために独立して設定できます。

本装置はPLC全自動制御を採用しており、ユーザーの要件に応じてプロセスパラメータを設定することで、すべての操作を自動で完了できます。また、すべてのプロセスパラメータを正確かつ信頼性の高い原本記録とともに印刷できるため、医薬品製造におけるGMP要件に完全に準拠しています。

（1）制御システムには5段階のパスワード認証が装備されており、モニター、オペレーター、プロセス担当者、保守担当者、管理者ごとに認証・管理されます。
（２）欧州連合 CE規格に適合しています。

生産能力
造粒および乾燥：130～300kg/バッチ
下面スプレーコーティング：114～190kg/バッチ

▲造粒用トップスプレー付き
▲電気加熱や蒸気加熱など、2つの加熱モードを選択可能
▲PID精密制御
▲クローズドオンラインサンプリングによる高い処理効率
▲防爆システム/耐10または12bar/最終除塵システム/除湿システムが利用可能です
▲WIPシステム/PATも利用可能
▲FDA、CGMP、GMPに完全準拠
▲制御システムはオプションで21CFR Part11の要件に準拠できます

スプレードライヤーは、粉体成形および乾燥業界で広く使用されているプロセスです。溶液、エマルジョン、懸濁液、ペーストなどの液体原料から粉体および粒状の製品を製造するのに適しています。そのため、最終製品の粒度分布、残留水分含有量、嵩密度、粒子形状が厳密な基準を満たす必要がある場合、スプレードライヤーは理想的なプロセスです。スプレードライヤーは、食品、医薬品、エネルギー、化学分野に適しています。

クローズドオンラインサンプリング
* PID精密制御
* 高い処理効率
* 防爆システムも利用可能
* WIPシステム
* FDA、GMPに完全準拠