乾燥機

オンラインサンプルは非公開です
PID精密制御
高い処理効率
防爆システムが利用可能
WIPシステム
FDA、cGMP、GMPの基準を完全に満たしています

オンラインサンプルは非公開です
PID精密制御
高い処理効率
防爆システムが利用可能
WIPシステム
FDA、cGMP、GMPの基準を完全に満たしています

二重円錐回転式真空乾燥機は、混合と真空乾燥を一体化した乾燥装置です。真空乾燥の工程は、乾燥対象物を密閉された円筒内に設置し、真空システムで真空ポンプを作動させながら連続的に加熱することで、圧力差または濃度差によって対象物内部の水分を表面に拡散させます。そして、水分子（またはその他の非凝縮性ガス）は対象物表面で十分な運動エネルギーを得て、分子間の引力を克服した後、真空チャンバーの低圧空間へと拡散します。その後、真空ポンプによって除去され、固体からの分離が完了します。

水の蒸発量：3kg/時
吸気温度：100～300℃（制御精度±1℃）
排気温度：40～100℃
電気ヒーターの出力：9kW
最大回転速度：24000rpm

クローズドオンラインサンプリング
* PID精密制御
* 高い処理効率
* 防爆システムも利用可能
* WIPシステム
* FDA、GMPに完全準拠

スプレードライヤーは、粉末成形および乾燥業界で広く用いられているプロセスです。溶液、乳化液、懸濁液、ペーストなどの液体原料から粉末状および顆粒状の製品を製造するのに適しています。そのため、スプレードライヤーは、最終製品の粒度分布、残留水分含有量、かさ密度、および粒子形状が厳密な基準を満たす必要がある場合に理想的なプロセスです。スプレードライヤーは、食品、医薬品、エネルギー、化学分野に適しています。

この二重円錐型真空乾燥機は、低温真空乾燥技術を採用しており、熱に弱く、酸化しやすく、揮発性があり、刺激臭のある材料向けに専門的に設計されています。医薬品、化学、食品、新エネルギー産業など幅広い分野で使用でき、医薬品原料、ハーブエキス、化学中間体、食品添加物などの粉末、顆粒、結晶性材料の乾燥に適しています。
密閉型二重円錐回転構造により、均一な乾燥を実現し、原料の活性と製品の安定性を効果的に維持するとともに、原料ロスを大幅に削減します。GMP基準に完全準拠した密閉設計により、交差汚染を防ぎ、生産の安全性と衛生性を保証します。操作が簡単で、性能が安定しており、幅広い用途に対応できるこの乾燥装置は、多様な生産ニーズを満たし、様々な工業プロセスに最適な乾燥ソリューションです。

シーメンス製比例弁を用いたPID制御により、空気温度は周囲温度から120℃まで調整可能です。安定した蒸気供給と適切なスチームトラップにより、温度は設定値から±2℃以内に維持され、温度変動を防ぎ、生産安定性を向上させます。

装置の自動生産と自動洗浄の処方は、可変プロセス制御をサポートし、各段階のプロセスパラメータは、顧客のカスタマイズされたプロセスのニーズを満たすために独立して設定できます。