乾燥機

スプレー ドライヤーは、粉末形成および乾燥業界で広く使用されているプロセスです。溶液、エマルジョン、懸濁液、ペーストなどの液体原料から粉末状および粒状の製品を製造するのに適しています。したがって、スプレー ドライヤーは、最終製品の粒度分布、残留水分含有量、嵩密度、粒子形状が厳密な基準を満たす必要がある場合に理想的なプロセスです。スプレー ドライヤーは、食品、医薬品、エネルギー、化学分野に適しています。

ダブルコーンロータリー真空乾燥機は、混合と真空乾燥を一体化した乾燥装置です。真空乾燥とは、密閉したシリンダー内に被乾燥物を入れ、真空装置で真空排気しながら連続的に加熱し、圧力差や濃度差により物体内の水分を表面に拡散させる方法です。 、水分子（または他の非凝縮性ガス）は材料の表面で十分な運動エネルギーを獲得し、分子間の相互引力に打ち勝った後、真空チャンバーの低圧空間に拡散します。真空ポンプにより除去され、固体との分離が完了します。

クローズドオンラインサンプリング
・PID精度制御
高い処理効率
防爆システムが利用可能
WIPシステム
FDA、cGMP、GMPを完全に満たす

R＆Dとスケールアップ
コンパクトな構造と省スペース
可動設計
多機能乾燥、上部噴霧造粒、サイド噴霧ペレット化、下部噴霧コーティング
クローズドオンラインサンプリング
再現性が
良好FDA、cGMP、GMPに完全に適合

R＆Dとスケールアップ
コンパクトな構造と省スペース
可動設計
多機能乾燥、上部噴霧造粒、サイド噴霧ペレット化、下部噴霧コーティング
クローズドオンラインサンプリング
再現性が
良好FDA、cGMP、GMPに完全に適合

クローズドオンラインサンプリング
PID精度制御
高い処理効率
Ex-proofシステムが利用可能
WIPシステム
FDA、cGMP、GMPに完全対応

クローズドオンラインサンプリング
PID精度制御
高い処理効率
Ex-proofシステムが利用可能
WIPシステム
FDA、cGMP、GMPに完全対応

クローズドオンラインサンプリング
PID精度制御
高い処理効率
Ex-proofシステムが利用可能
WIPシステム
FDA、cGMP、GMPに完全対応

クローズドオンラインサンプリング
PID精度制御
高い処理効率
Ex-proofシステムが利用可能
WIPシステム
FDA、cGMP、GMPに完全対応